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[2022 주총] GS, 첫 여성 사외이사 선임…문효은 아트벤처스 대표

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Monday, March 28, 2022, 15:03:39

자본시장법 개정 및 시행 따라 자사 첫 사외이사 선임

 

인더뉴스 홍승표 기자ㅣGS[078930]가 자사 첫 여성 사외이사를 신규 선임했습니다.

 

GS는 28일 서울 강남구 역삼동 GS타워에서 제18기 정기 주주총회를 열고 문효은 아트벤처스 대표이사를 신규 사외이사로 선임하는 안건을 의결했다고 밝혔습니다. 문 대표는 GS의 초대 여성 사외이사로 이름을 올리게 됐습니다.

 

문 신임 사외이사는 1967년생으로 다음커뮤니케이션(현 카카오) 부사장과 이화여자대학교 리더십개발원 교수를 역임했고 현재는 전시기업인 아트벤처스의 대표로 재임 중입니다.

 

문 사외이사의 선임은 개정된 자본시장법이 올해 시행을 앞두고 있어 이뤄졌습니다. 자본시장법에 따르면 오는 8월부터 국내 자산 2조원 이상의 상장된 대기업은 특정 성별로만 이사회를 구성할 수 없도록 하고 있습니다.

 

주총에서는 재무제표 승인의 건, 이사 선임의 건, 이사 보수 한도 승인의 건 등 결의사항이 모두 통과됐습니다.

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홍승표 기자 softman@inthenews.co.kr


삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

2024.04.23 11:07:48

인더뉴스 이종현 기자ㅣ삼성전자[005930]가 업계 최초로 '1Tb(테라비트) TLC(Triple Level Cell) 9세대 V낸드' 양산을 시작한다고 23일 밝혔습니다. AI시대가 도래한 만큼 현재 업계에서는 AI기술에 핵심적으로 사용되는 고용량·고성능 낸드플래시에 대한 관심이 집중되고 있습니다. 삼성전자는 이번 '9세대 V낸드' 양산을 시작으로 낸드플래시 시장에서의 경쟁력을 공고히 하겠다는 입장입니다. 삼성전자는 업계 최소 크기 셀(Cell)과 최소 몰드(Mold) 두께를 구현해 '1Tb TLC 9세대 V낸드'의 비트 밀도를 이전 세대 대비 약 1.5배 증가시켰습니다. 동시에 더미 채널 홀 제거 기술로 셀의 평면적을 줄였으며 셀의 크기를 줄이면서 생기는 간섭 현상을 제어하기 위해 셀 간섭 회피 기술, 셀 수명 연장 기술을 적용했습니다. 해당 제품은 더블 스택(Double Stack) 구조로 구현할 수 있는 최고 단수 제품으로 '채널 홀 에칭(Channel Hole Etching)' 기술을 통해 한번에 업계 최대 단수를 뚫는 공정을 통해 생산성을 향상시켰습니다. '채널 홀 에칭'은 몰드층을 순차적으로 적층한 다음 한 번에 전자가 이동하는 채널 홀을 만드는 기술입니다. '9세대 V낸드'는 차세대 낸드플래시 인터페이스인 'Toggle 5.1'이 적용돼 8세대 V낸드 대비 33% 향상된 최대 3.2Gbps의 데이터 입출력 속도를 냅니다. 삼성전자는 이를 기반으로 PCIe 5.0 인터페이스를 지원하고 고성능 SSD 시장을 확대할 계획입니다. 또한 '9세대 V낸드'는 저전력 설계 기술을 탑재해 이전 세대 제품 대비 소비 전력이 약 10% 개선됐습니다. 허성회 삼성전자 메모리사업부 Flash개발실장 부사장은 "낸드플래시 제품의 세대가 진화할수록 고용량·고성능 제품에 대한 고객의 니즈가 높아지고 있어 극한의 기술 혁신을 통해 생산성과 제품 경쟁력을 높였다"며 "9세대 V낸드를 통해 AI 시대에 대응하는 초고속, 초고용량 SSD 시장을 선도해 나갈 것"이라고 말했습니다. 삼성전자는 'TLC 9세대 V낸드'에 이어 올 하반기 'QLC(Quad Level Cell) 9세대 V낸드'도 양산할 예정으로 고용량·고성능 낸드플래시 개발을 지속할 예정입니다.


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