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한국타이어, 테스트 트랙 ‘한국테크노링’ 오픈…아시아 최대 규모

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Wednesday, May 25, 2022, 15:05:54

총 13개 트랙..250km/h 이상 고속 주행 테스트 가능
혁신제품 개발에 필요한 타이어 성능 테스트도 진행

 

인더뉴스 홍승표 기자ㅣ한국타이어앤테크놀로지(이하 한국타이어)가 충남 태안에 아시아 최대 규모 테스트 트랙인 한국테크노링을 오픈했습니다.

 

한국타이어[161390]는 25일 한국테크노링에서 ‘한국타이어 프레스 데이 2022’를 열고 트랙에 대한 설명 및 한국타이어의 글로벌 중장기 혁신 전략에 대해 발표를 진행했습니다. 

 

한국테크노링은 축구장 약 125개 크기의 부지면적 126만㎡(38만평), 총 13개의 트랙을 갖췄으며 아시아 최대 규모 및 최장 테스트 노면을 보유한 트랙으로 조성됐습니다. 트랙에서는 최고 속도 250km/h 이상 고속 주행 테스트가 가능하며 전기차, 슈퍼카용 타이어 등 혁신제품 개발에 필요한 타이어 성능 테스트도 이뤄집니다.

 

이와 함께, 트럭과 버스 등 모든 차량들에 대한 평가가 가능하며 컨트롤 타워, 오피스동, 타이어 워크숍, 전기차 충전소 시설을 완비한 최첨단 하이테크 R&D 시설도 마련됐습니다.

 

한국테크노링 준공을 통해 한국타이어는 글로벌 컨트롤 타워 역할을 담당하는 본사 ‘테크노플렉스’의 중장기 전략 및 혁신 상품 기획, 하이테크 기술력의 메카인 중앙연구소 ‘한국테크노돔’의 타이어 원천기술 개발, 글로벌 8개의 생산기지 등 혁신 시너지를 완성할 R&D 인프라를 확고히 구축하게 됐습니다.

 

한국타이어 측은 유기적으로 연결된 R&D 인프라를 통해 미래 오토모티브 산업을 이끌어 나갈 최첨단 기술 혁신 선도 기업으로 도약을 기대하고 있다고 설명했습니다. 한국테크노링은 글로벌 프리미엄 완성차의 니즈 충족 및 미래 오토모티브 산업을 선점할 수 있는 최첨단 테스트 센터로의 역할 수행과 한국타이어가 혁신을 실현하는 대표 장소로 거듭날 예정입니다.

 

이와 함께, 다양한 실차 테스트 데이터를 기반으로 한 빅데이터 분석 플랫폼을 구축하고, AI를 활용한 가상 최적화 기술을 개발하는 등 디지털 트랜스포메이션 실현에 앞장설 예정입니다. 이를 위해 37.1m 높이의 컨트롤 타워에서는 최첨단 통합 모니터링 시스템을 바탕으로 기상 조건을 고려한 관리가 진행되며 노면, 기후 등의 주요 테스트 데이터를 축적하게 됩니다.

 

이 외에도, 가장 혹독한 환경에서 타이어와 차량의 반응을 다방면으로 테스트해 데이터화 하고, 결과를 바탕으로 ‘디지털 트윈 프로세스’를 구축해 원천기술과 미래 모빌리티 연구에 응용하는 혁신 기술로도 발전시킨다는 계획입니다.

 

한국타이어 관계자는 "한국테크노링의 최첨단 인프라를 활용해 드라이빙 컬쳐 확립과 함께 다양한 모빌리티 기업 및 학계, 기관, 스타트업과의 협업도 적극적으로 모색할 예정"이라며 "글로벌 모빌리티 산업 기술 발전에 이바지하고, R&D 역량을 지속적으로 발전시켜 글로벌 Top Tier 기업으로 자리매김할 수 있도록 최선을 노력을 다할 계획"이라고 밝혔습니다.

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홍승표 기자 softman@inthenews.co.kr


삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

2024.04.23 11:07:48

인더뉴스 이종현 기자ㅣ삼성전자[005930]가 업계 최초로 '1Tb(테라비트) TLC(Triple Level Cell) 9세대 V낸드' 양산을 시작한다고 23일 밝혔습니다. AI시대가 도래한 만큼 현재 업계에서는 AI기술에 핵심적으로 사용되는 고용량·고성능 낸드플래시에 대한 관심이 집중되고 있습니다. 삼성전자는 이번 '9세대 V낸드' 양산을 시작으로 낸드플래시 시장에서의 경쟁력을 공고히 하겠다는 입장입니다. 삼성전자는 업계 최소 크기 셀(Cell)과 최소 몰드(Mold) 두께를 구현해 '1Tb TLC 9세대 V낸드'의 비트 밀도를 이전 세대 대비 약 1.5배 증가시켰습니다. 동시에 더미 채널 홀 제거 기술로 셀의 평면적을 줄였으며 셀의 크기를 줄이면서 생기는 간섭 현상을 제어하기 위해 셀 간섭 회피 기술, 셀 수명 연장 기술을 적용했습니다. 해당 제품은 더블 스택(Double Stack) 구조로 구현할 수 있는 최고 단수 제품으로 '채널 홀 에칭(Channel Hole Etching)' 기술을 통해 한번에 업계 최대 단수를 뚫는 공정을 통해 생산성을 향상시켰습니다. '채널 홀 에칭'은 몰드층을 순차적으로 적층한 다음 한 번에 전자가 이동하는 채널 홀을 만드는 기술입니다. '9세대 V낸드'는 차세대 낸드플래시 인터페이스인 'Toggle 5.1'이 적용돼 8세대 V낸드 대비 33% 향상된 최대 3.2Gbps의 데이터 입출력 속도를 냅니다. 삼성전자는 이를 기반으로 PCIe 5.0 인터페이스를 지원하고 고성능 SSD 시장을 확대할 계획입니다. 또한 '9세대 V낸드'는 저전력 설계 기술을 탑재해 이전 세대 제품 대비 소비 전력이 약 10% 개선됐습니다. 허성회 삼성전자 메모리사업부 Flash개발실장 부사장은 "낸드플래시 제품의 세대가 진화할수록 고용량·고성능 제품에 대한 고객의 니즈가 높아지고 있어 극한의 기술 혁신을 통해 생산성과 제품 경쟁력을 높였다"며 "9세대 V낸드를 통해 AI 시대에 대응하는 초고속, 초고용량 SSD 시장을 선도해 나갈 것"이라고 말했습니다. 삼성전자는 'TLC 9세대 V낸드'에 이어 올 하반기 'QLC(Quad Level Cell) 9세대 V낸드'도 양산할 예정으로 고용량·고성능 낸드플래시 개발을 지속할 예정입니다.


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