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“케냐 새 경제축 중심, 콘자 DMC로 오세요”

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Tuesday, April 09, 2019, 09:04:46

그랜드인터컨티넨탈호텔서 케냐 투자 진출 참가기업 세미나

 

인더뉴스 박명기 기자ㅣ 기획재정부 및 KOTRA는 동아프리카 경제의 중심국가인 케냐에서 추진 중인 콘자 디지털미디어시티(DMC) 조성사업에 대한 세미나를 열었다.

 

8일 서울 삼성동 그랜드 인터컨티넨탈 호텔 2층 국화룸에서 열린 탄누이(Eng. John Tanui) 콘자신도시개발청(KoTDA) 대표 등이 참석해 150여명 한국 기업 및 기관 관계자를 대상으로 주제 발표를 했다.

 

개회사는 이재훈 교수 과제책임자(한국외대교수)가 맡았고, 축사는 코트라개발협력실 최현필실장, 환영사는 주한 케냐대사관 정치참사관 자크퀴린 와이구추(Ms.JacquelineWaiguchu)가 맡았다.

 

탄누이 대표는 “콘자 테크노폴리스(Konza technopolis)는 케냐 정부가 추진하는 스마트시티 개발으로 경제축의 핵심 중 하나”라며 “기술과 혁신이라는 주제로 인근 도시와 나라와 IT(정보통신)와 연계한다”고 소개했다.

 

탄누이는 모이대학 통신분야를 전공해, 나이로비 대학 MBA, 화웨이 케냐 CEO(1990~2014)를 역임했다.

 

콘자는 수도 나이로비와 몸바사 로드에서 약 60km 떨어진 나이로비 남쪽에 물류 및 인력을 위한 전략적인 위치에 있다. 1단계 인프라-서비스 개발이 마치면 2019년 7월부터 첫 필지가 제공된다.

 

특히 그는 “한국과는 한국과학기술원(KAIST)이 케냐 과학기술원 설립을 위해 기술 및 자금 등을 협력하는 파트너십을 갖고 있는 프로젝트다”라며 “기술적으로 글로벌 허브, 인프라는 수평적 개발하는데 현재 8층 건물이 98% 완성됐다”고 말했다.

 

이 사업은 한국 정부로부터 차관을 받아 진행하며, 총사업비는 9500만달러(1070억원) 규모다. 년간 기계공학·전기 및 전자공학·ICT 공학·화학공학·토목공학·농업 생명공학 등 6개 핵심학과와 공통 기초과학 프로그램을 설계해 제공한다.

 

 

케냐 정부는 ‘케냐 2030’이라는 중장기 계획을 통해 케냐 정보통신부와 재무부의 지원을 통해 콘자 테크노폴리스를 글로벌 기술 및 혁신 허브로 조성한다는 계획을 세웠다.

 

이날 케냐 담당자들은 “한국과 컨소시엄을 구성해 ‘케냐 KAIST’를 목표로 ‘실리콘 사바나’ ICT 도시를 만들자”고 요청했다.

 

케냐 KSP 및 콘자 디지털미디어시티 사업 개요 발표는 ㈜도화엔지니어링 임동원 상무, 콘자테크노폴리스사업 소개는 콘자개발청 CEO 존 타뉴이(JohnTanui), EDCF 소개 및 연계 전략운EDCF 이진하 부부장, .케냐 ICT 및 미디어시장환경 케냐전파통신청부국장 길버트 뮤게니(Mr.Gilbert Mugeni), 케냐 투자환경 소개 마쿠에니 주지사 깁웨라 키뮤타(Mr. Kibwaea Kivutha) 등이다.

 

콘자 디지털미디어 시티는 콘자 테크노폴리스 내 약 60ha규모로 조성된다. 영화, 애니메이션, 게임 등 케냐 젊은 인구들의 재능을 펼칠 수 있고, 한국을 비롯한 해외미디어 기업들의 투자가 가능한 새로운 디지털미디어 허브로 조성될 것이다.

 

콘자신도시 개발청은 콘자신도시 실행을 위한 전문가로 구성돼 있다. 2015년 경제특구법이 제정돼 스탬프 과세 면제, 낮은 세율, 국외 거주자 임금 소득세 납부 면제, 외국 기업의 현지 투자자에 대한 보유지분 20% 면제 등 혜택이 주어진다.

 

 

투자자들은 최대 50년동안 부동산 임대를 통해 토지를 취득한다. 건물, 사업 시설 및 장비는 최대 50년간 부동산으로 임대 가능하다.

 

이날 이진하 수출입은행 매니저는 “케냐의 최근 가장 강력한 프로젝트”라고 소개하면서 투자 포인트를 소개했다.

 

케냐 미디어 및 투자관련 기관들과 한국 미디어기업들 간 네트워킹 참석자는 다음과 같다.

 

케냐 측 케냐 마쿠에니 주지사:Mr.Kibwana, 케냐 상원의원 및 국회의원:Ms.Halake외 2인, 케냐정보통신부(MoICT):Mr.Macharia외 1인, 케냐외교부(MoFA):Mr.Gatuthu, 콘자테크노폴리스개발청(KoTDA):Ms.Muema(이사장)외 2인, 주한케냐대사관, 콘자미디어관련협회 및 민간기업,전문가 등 케냐측 총 26인.

 

한국 측은 기획재정부(MoEF):대외경제국경제협력기획과 이현준 사무관, 최우임 연구관, 대한무역투자진흥공사(KOTRA):개발협력실최현필실장, 김승기과장, 대외경제협력기금(EDCF):이진하부부장, 서울산업진흥원(SBA):김영석 팀장, KSP연구진(도화엔지니어링+서울시립대컨소시엄) ,국내 미디어 관련기업 및 투자기업 (약 30개사 40여명 참석).

 

이 행사는 기획재정부와 코트라에서 주관하고 ㈜도화엔지니어링과 서울시립대학교에서 수행하는 2018/19 케냐 KSP 사업의 콘자 디지털미디어시티 조성을 위한 투자진출 세미나다.

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박명기 기자 pnet21@inthenews.co.kr


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2024.04.23 11:07:48

인더뉴스 이종현 기자ㅣ삼성전자[005930]가 업계 최초로 '1Tb(테라비트) TLC(Triple Level Cell) 9세대 V낸드' 양산을 시작한다고 23일 밝혔습니다. AI시대가 도래한 만큼 현재 업계에서는 AI기술에 핵심적으로 사용되는 고용량·고성능 낸드플래시에 대한 관심이 집중되고 있습니다. 삼성전자는 이번 '9세대 V낸드' 양산을 시작으로 낸드플래시 시장에서의 경쟁력을 공고히 하겠다는 입장입니다. 삼성전자는 업계 최소 크기 셀(Cell)과 최소 몰드(Mold) 두께를 구현해 '1Tb TLC 9세대 V낸드'의 비트 밀도를 이전 세대 대비 약 1.5배 증가시켰습니다. 동시에 더미 채널 홀 제거 기술로 셀의 평면적을 줄였으며 셀의 크기를 줄이면서 생기는 간섭 현상을 제어하기 위해 셀 간섭 회피 기술, 셀 수명 연장 기술을 적용했습니다. 해당 제품은 더블 스택(Double Stack) 구조로 구현할 수 있는 최고 단수 제품으로 '채널 홀 에칭(Channel Hole Etching)' 기술을 통해 한번에 업계 최대 단수를 뚫는 공정을 통해 생산성을 향상시켰습니다. '채널 홀 에칭'은 몰드층을 순차적으로 적층한 다음 한 번에 전자가 이동하는 채널 홀을 만드는 기술입니다. '9세대 V낸드'는 차세대 낸드플래시 인터페이스인 'Toggle 5.1'이 적용돼 8세대 V낸드 대비 33% 향상된 최대 3.2Gbps의 데이터 입출력 속도를 냅니다. 삼성전자는 이를 기반으로 PCIe 5.0 인터페이스를 지원하고 고성능 SSD 시장을 확대할 계획입니다. 또한 '9세대 V낸드'는 저전력 설계 기술을 탑재해 이전 세대 제품 대비 소비 전력이 약 10% 개선됐습니다. 허성회 삼성전자 메모리사업부 Flash개발실장 부사장은 "낸드플래시 제품의 세대가 진화할수록 고용량·고성능 제품에 대한 고객의 니즈가 높아지고 있어 극한의 기술 혁신을 통해 생산성과 제품 경쟁력을 높였다"며 "9세대 V낸드를 통해 AI 시대에 대응하는 초고속, 초고용량 SSD 시장을 선도해 나갈 것"이라고 말했습니다. 삼성전자는 'TLC 9세대 V낸드'에 이어 올 하반기 'QLC(Quad Level Cell) 9세대 V낸드'도 양산할 예정으로 고용량·고성능 낸드플래시 개발을 지속할 예정입니다.


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