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현대건설, 포항 ‘힐스테이트 환호공원’ 분양…총 2994가구

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Thursday, April 07, 2022, 15:04:36

‘민간공원조성 특례사업’으로 조성..전용면적 59~101㎡
비규제지역으로 만 19세 이상 및 청약통장 있으면 청약 가능

 

인더뉴스 홍승표 기자ㅣ현대건설[000720]은 이달 경북 포항시 북구 포항환호공원 1,2블럭 일원에 민간공원조성 특례사업으로 공급하는 아파트 단지인 ‘힐스테이트 환호공원’ 분양을 진행한다고 7일 밝혔습니다.

 

단지는 지하 3층~지상 최고 38층, 20개 동, 전용 59~101㎡, 총 2994가구(1블럭 1590가구, 2블럭 1404가구)의 대단지 규모로 조성됩니다. 블럭별 가구수는 1블럭 ▲59㎡ 302가구 ▲84㎡ 994가구 ▲101㎡ 294가구이며, 2블럭은 ▲59㎡ 364가구 ▲84㎡ 747가구 ▲101㎡ 293가구입니다.

 

현대건설은 단지가 위치한 포항 북구가 비규제지역이기 때문에 만 19세 이상과 동시에 청약통장이 있으면 주택 유무 및 기존 당첨 사실 여부 등 관계없이 청약이 가능하다고 설명했습니다. 또, 민간공원조성 특례사업으로 공급돼 쾌적한 주거환경을 자랑하고 생활 인프라도 잘 갖춰져 있다고 덧붙였습니다.

 

환호공원은 총 132만7142㎡로 국제축구경기장 규격(약 7000㎡)의 약 180배가 넘는 대규모 공원으로 조성됩니다. 공원시설면적(28만67㎡)과 녹지(87만9208㎡), 비공원시설(16만7867㎡)로 구성되며 공원시설에는 운동 및 휴게시설, 산책로, 식물원 등이, 비공원시설에는 단지가 들어섭니다.

 

단지 주변으로는 새천년대로, 삼호로, 소티재로, 영일만대로 등 포항 내 주요 도로와 함께 포항고속버스터미널이 위치해 있으며, 인근에 KTX 포항역도 있어 각지로의 이동이 원활합니다. 도보 통학권인 해맞이초등학교를 비롯해 단지 반경 2km 안에 중-고교도 있어 학세권 단지로도 주목받을 전망입니다.

 

대형마트, 백화점, 전통시장 등의 쇼핑시설 및 의료시설, 문화시설 등 생활 인프라도 주변에 인접해 이용이 편리하며 포항국가산업단지, 영일만산업단지 등도 인근에 자리하고 있어 원활한 직주근접성을 갖췄습니다.

 

단지는 남향 위주의 배치와 4-BAY·판상형(일부세대) 설계로 채광과 통풍을 높이는 데 주력했으며, 드레스룸·펜트리·알파룸(일부세대) 등의 도입을 통한 수납과 공간 활용폭 증대에도 초점을 맞췄습니다.

 

커뮤니티 센터는 피트니스센터, 실내골프장, 작은도서관, 스카이라운지, 게스트하우스, 어린이집, 경로당, 건식사우나 등 다채롭게 구성돼 입주민들의 여가 생활을 도울 전망입니다. 단지 최상층에는 스카이라운지가 설계돼 입주민 누구나 동해바다 오션뷰와 영일만 일출 및 일몰을 감상할 수 있을 것으로 보입니다.

 

현대건설 관계자는 "환호공원 및 동해바다의 쾌적함과 대단지, 브랜드 선호도까지 랜드마크 단지로 다양한 장점을 갖추고 있어 벌써부터 관심이 이어지고 있다"며 "다양한 개발호재로 꾸준하게 발전하고 있는 포항 북구에서 현대건설 프리미엄을 누릴 수 있도록 최선을 다할 것"이라고 말했습니다.

 

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홍승표 기자 softman@inthenews.co.kr


삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

2024.04.23 11:07:48

인더뉴스 이종현 기자ㅣ삼성전자[005930]가 업계 최초로 '1Tb(테라비트) TLC(Triple Level Cell) 9세대 V낸드' 양산을 시작한다고 23일 밝혔습니다. AI시대가 도래한 만큼 현재 업계에서는 AI기술에 핵심적으로 사용되는 고용량·고성능 낸드플래시에 대한 관심이 집중되고 있습니다. 삼성전자는 이번 '9세대 V낸드' 양산을 시작으로 낸드플래시 시장에서의 경쟁력을 공고히 하겠다는 입장입니다. 삼성전자는 업계 최소 크기 셀(Cell)과 최소 몰드(Mold) 두께를 구현해 '1Tb TLC 9세대 V낸드'의 비트 밀도를 이전 세대 대비 약 1.5배 증가시켰습니다. 동시에 더미 채널 홀 제거 기술로 셀의 평면적을 줄였으며 셀의 크기를 줄이면서 생기는 간섭 현상을 제어하기 위해 셀 간섭 회피 기술, 셀 수명 연장 기술을 적용했습니다. 해당 제품은 더블 스택(Double Stack) 구조로 구현할 수 있는 최고 단수 제품으로 '채널 홀 에칭(Channel Hole Etching)' 기술을 통해 한번에 업계 최대 단수를 뚫는 공정을 통해 생산성을 향상시켰습니다. '채널 홀 에칭'은 몰드층을 순차적으로 적층한 다음 한 번에 전자가 이동하는 채널 홀을 만드는 기술입니다. '9세대 V낸드'는 차세대 낸드플래시 인터페이스인 'Toggle 5.1'이 적용돼 8세대 V낸드 대비 33% 향상된 최대 3.2Gbps의 데이터 입출력 속도를 냅니다. 삼성전자는 이를 기반으로 PCIe 5.0 인터페이스를 지원하고 고성능 SSD 시장을 확대할 계획입니다. 또한 '9세대 V낸드'는 저전력 설계 기술을 탑재해 이전 세대 제품 대비 소비 전력이 약 10% 개선됐습니다. 허성회 삼성전자 메모리사업부 Flash개발실장 부사장은 "낸드플래시 제품의 세대가 진화할수록 고용량·고성능 제품에 대한 고객의 니즈가 높아지고 있어 극한의 기술 혁신을 통해 생산성과 제품 경쟁력을 높였다"며 "9세대 V낸드를 통해 AI 시대에 대응하는 초고속, 초고용량 SSD 시장을 선도해 나갈 것"이라고 말했습니다. 삼성전자는 'TLC 9세대 V낸드'에 이어 올 하반기 'QLC(Quad Level Cell) 9세대 V낸드'도 양산할 예정으로 고용량·고성능 낸드플래시 개발을 지속할 예정입니다.


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