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GS건설, 100% 친환경 신재생에너지 사업 추진한다

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Monday, July 19, 2021, 17:07:00

태양에너지·수소연료전지 이용한 전력 생산·공급‥약 5000억원 규모

 

인더뉴스 안정호 기자ㅣGS건설이 신재생에너지 전력 인프라 구축과 운영 사업에 본격적인 투자에 나섭니다.

 

GS건설(대표 허창수·임병용)은 19일 포항시 영일만4 일반산업단지에 100% 신재생에너지를 사용하는 발전사업에 투자하는 양해각서(MOU)를 체결했다고 밝혔습니다.

 

이날 체결식에는 포항시청에서 이강덕 포항시장과 허윤홍 GS건설 신사업부문 대표 등이 참석했습니다.

 

이번 투자양해각서로 향후 GS건설은 포항시 영일만4 일반산업단지에 태양광과 수소연료전지를 이용한 100% 신재생에너지 사업에 투자하게 됩니다. 투자규모는 약 5000억원으로 신재생에너지 발전으로만 약 98.9MW 전원을 확보하게 되는데요. 투자기간은 오는 2023년부터 2028년까지 6년간입니다.

 

포항시 영일만4 일반산업단지는 포항시가 미래 탄소중립의 전초기지로 준비 중인 공단으로 RE100(Renewable Energy 100%, 기업 등 전기소비자가 태양에너지, 바람에너지 등 재생에너지를 100% 사용 하는 자발적 캠페인) 사업을 통해 에너지 자립형 산업 단지로 도약하기 위해 조성한 곳입니다. 여기에 GS건설은 신재생에너지 공급과 운영을 맡게 됩니다.

 

이로써 GS건설은 친환경 신사업에 대한 투자 확대를 통해 EGS선도 기업으로 자리매김 할 것으로 기대하고 있습니다. GS이니마의 수처리 시설, 스마트 양식, 주택 모듈러, 해외태양광, 2차 전지 리사이클링 사업에 이어 신재생에너지에 대한 대규모 투자 및 운영을 통해 친환경사업을 미래성장동력의 핵심으로 삼게 된 것입니다.

 

특히, 이번 투자는 ‘디지털 역량 강화와 친환경 경영을 통한 신사업 발굴’이라는 GS그룹의 올해 경영방침에 따른 사업으로 향후 그룹의 핵심가치인 ‘친환경 경영을 통한 지속가능성장(Growth through Sustainability)’의 대표 사업으로 주목받고 있다고 회사는 전했습니다.

 

허윤홍 GS건설 신사업부문 대표는 “100% 신재생 에너지를 공급하는 친환경 미래사업인 만큼 이번 투자를 계기로GS건설은 ESG 선도기업으로 환경과 사회를 생각하는 지속가능경영을 이어갈 것”이라고 말했습니다.

 

한편, 영일만 4 일반산단은 포항북구 흥해읍 곡강·용한리 일원 260만㎥(78만평) 부지에 조성 되는 단지로 지난 2019년 7월 ‘차세대 배터리 리사이클링 규제 자유특구’로 지정돼 4차 산업혁명을 이끌 미래형 공단으로 주목받고 있습니다. 앞서 GS 건설은 지난해 경상북도, 포항시와 2차전지 배터리 리사이클 제조시설 구축을 위한 투자협약을 맺고 올해 공장 준공에 들어갑니다.

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안정호 기자 vividocu@inthenews.co.kr


삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

2024.04.23 11:07:48

인더뉴스 이종현 기자ㅣ삼성전자[005930]가 업계 최초로 '1Tb(테라비트) TLC(Triple Level Cell) 9세대 V낸드' 양산을 시작한다고 23일 밝혔습니다. AI시대가 도래한 만큼 현재 업계에서는 AI기술에 핵심적으로 사용되는 고용량·고성능 낸드플래시에 대한 관심이 집중되고 있습니다. 삼성전자는 이번 '9세대 V낸드' 양산을 시작으로 낸드플래시 시장에서의 경쟁력을 공고히 하겠다는 입장입니다. 삼성전자는 업계 최소 크기 셀(Cell)과 최소 몰드(Mold) 두께를 구현해 '1Tb TLC 9세대 V낸드'의 비트 밀도를 이전 세대 대비 약 1.5배 증가시켰습니다. 동시에 더미 채널 홀 제거 기술로 셀의 평면적을 줄였으며 셀의 크기를 줄이면서 생기는 간섭 현상을 제어하기 위해 셀 간섭 회피 기술, 셀 수명 연장 기술을 적용했습니다. 해당 제품은 더블 스택(Double Stack) 구조로 구현할 수 있는 최고 단수 제품으로 '채널 홀 에칭(Channel Hole Etching)' 기술을 통해 한번에 업계 최대 단수를 뚫는 공정을 통해 생산성을 향상시켰습니다. '채널 홀 에칭'은 몰드층을 순차적으로 적층한 다음 한 번에 전자가 이동하는 채널 홀을 만드는 기술입니다. '9세대 V낸드'는 차세대 낸드플래시 인터페이스인 'Toggle 5.1'이 적용돼 8세대 V낸드 대비 33% 향상된 최대 3.2Gbps의 데이터 입출력 속도를 냅니다. 삼성전자는 이를 기반으로 PCIe 5.0 인터페이스를 지원하고 고성능 SSD 시장을 확대할 계획입니다. 또한 '9세대 V낸드'는 저전력 설계 기술을 탑재해 이전 세대 제품 대비 소비 전력이 약 10% 개선됐습니다. 허성회 삼성전자 메모리사업부 Flash개발실장 부사장은 "낸드플래시 제품의 세대가 진화할수록 고용량·고성능 제품에 대한 고객의 니즈가 높아지고 있어 극한의 기술 혁신을 통해 생산성과 제품 경쟁력을 높였다"며 "9세대 V낸드를 통해 AI 시대에 대응하는 초고속, 초고용량 SSD 시장을 선도해 나갈 것"이라고 말했습니다. 삼성전자는 'TLC 9세대 V낸드'에 이어 올 하반기 'QLC(Quad Level Cell) 9세대 V낸드'도 양산할 예정으로 고용량·고성능 낸드플래시 개발을 지속할 예정입니다.


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