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4일부터 스키장·학원 풀고 야외스크린골프장 폐쇄?… 중수본 문건 추정 인터넷 유포 논란

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Friday, January 01, 2021, 23:01:11

스키장 등 겨울 스포츠 시설은 전국 운영 허용..부대시설만 집합금지
중수본 문건 사실일 경우, 중대본 회의 전에 결정된 짜맞추기식 행정 비판 거세질 듯
어제 화성시 인스타그램 게시물도 유사한 내용을 게재 후 삭제돼 논란 일어

 

인더뉴스 남궁경 기자ㅣ정부가 오는 2일 코로나19 방역대응을 위한 사회적 거리두기 단계를 조정할 것으로 알려진 가운데, 온라인상에서 중앙사고수습본부(중수본)가 작성한 문건으로 추정되는 내용이 떠돌고 있어 이미 공식 논의 전에 결론이 난 것이 아니냐는 의혹이 제기되고 있습니다.

 

1일 온라인상에는 중수본 생활방역팀이 지난 12월 30일 작성한 것으로 보이는 ‘수도권 사회적 거리두기 조정방안’이라는 한 장짜리 문서가 공유됐습니다.

 

유출로 추정되는 이 문서에 따르면 사회적 거리두기 2.5단계는 오는 4일부터 24일까지 3주간 연장되고, 현재 수도권 2.5단계 방역수칙에 연말연시 특별조치를 포함해 일부 시설에 대해선 추가 방역수칙이 보완됩니다.

 

현재 운영 중인 실외 타석과 실내 대기석을 융합한 형태로 방을 만들어 운영되는 야외스크린골프장은 집합금지가 되는데요. 즉, 폐쇄되는 것으로 적혀있습니다.

 

반면 현재 집합금지 상태인 수도권 학원과 교습소는 방학 중 돌봄공백을 고려해 9인 이하의 학습과 교습은 운영을 허용하는 것으로 적혀있습니다. 또 집합금지 단계에 있는 스키장·눈썰매장·빙상장 등은 전국적으로 운영을 허용하되, 식당 및 카페 등 부대시설은 집합금지 명령이 그대로 적용됩니다.

 

거리두기에 대한 강화된 처벌 조항 등의 내용도 명시돼 있습니다. 위반 시 조치사항으로 1단계(현장적발)→2단계(단속 설명)→3단계(경찰 고발)→4단계(벌금 부과 등) 등 총 4단계로 구체화된 내용이 담겨있습니다.

 

이 문건에는 손 글씨로 ‘2021년 1월 2일(토) 중앙방역대책본부(중대본) 회의 후 발표 예정’으로 적혀있어, 실제 중수본이 내부문건을 작성했을 것에 신빙성을 더하고 있습니다.

 

실제 이 문건이 중수본에서 유출된 것이 맞을 경우, 이날 중대본이 그간의 방역상황을 고려해 세부 내용을 논의하기 전에 거리두기 조정방안을 미리 확정한, 이른바 ‘짜 맞추기 행정’을 한 것이 아니냐는 비판이 거세질 것으로 보이는데요.

 

집합금지 명령으로 사실상 시설폐쇄 명령을 받는 한 시민은 “이런 내용이 사실이라면, 자영업자들은 이미 피눈물 나면서 고생하고 있는데, 탁상행정으로 이렇게 현실도 모른 채 공정성과 형평성 없이 결정한 것은 분개할 수밖에 없다”고 날을 세웠습니다.

 

 

한편, 이번 문건과 유사한 내용이 담긴 게시글이 지난달 31일 경기 화성시 공식 인스타그램에 게시되기도 했습니다. 해당 게시물은 1월 4일부터 24일까지 3주간 수도권 거리두기를 연장한다는 내용을 소개하는 이미지 자료입니다.

 

이 자료는 SNS에 게시물이 올라왔다가 삭제되면서 이미 거리두기 연장을 결정해놓고 시간 끌기를 하고 있다는 비판이 거세게 일었습니다.

 

화성시는 이와 관련해 이날 오후 “이번 주 주말 정부의 공식 발표를 거쳐 변동상황에 대해 업로드해드리겠습니다. 심려를 끼쳐 대단히 죄송합니다”라고 언급했으나, 사실 여부는 밝히지 않고 있어 궁금증을 더하고 있습니다.

 

English(中文·日本語) news is the result of applying Google Translate. <iN THE NEWS> is not responsible for the content of English(中文·日本語) news.

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남궁경 기자 nkk@inthenews.co.kr


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2024.04.23 11:07:48

인더뉴스 이종현 기자ㅣ삼성전자[005930]가 업계 최초로 '1Tb(테라비트) TLC(Triple Level Cell) 9세대 V낸드' 양산을 시작한다고 23일 밝혔습니다. AI시대가 도래한 만큼 현재 업계에서는 AI기술에 핵심적으로 사용되는 고용량·고성능 낸드플래시에 대한 관심이 집중되고 있습니다. 삼성전자는 이번 '9세대 V낸드' 양산을 시작으로 낸드플래시 시장에서의 경쟁력을 공고히 하겠다는 입장입니다. 삼성전자는 업계 최소 크기 셀(Cell)과 최소 몰드(Mold) 두께를 구현해 '1Tb TLC 9세대 V낸드'의 비트 밀도를 이전 세대 대비 약 1.5배 증가시켰습니다. 동시에 더미 채널 홀 제거 기술로 셀의 평면적을 줄였으며 셀의 크기를 줄이면서 생기는 간섭 현상을 제어하기 위해 셀 간섭 회피 기술, 셀 수명 연장 기술을 적용했습니다. 해당 제품은 더블 스택(Double Stack) 구조로 구현할 수 있는 최고 단수 제품으로 '채널 홀 에칭(Channel Hole Etching)' 기술을 통해 한번에 업계 최대 단수를 뚫는 공정을 통해 생산성을 향상시켰습니다. '채널 홀 에칭'은 몰드층을 순차적으로 적층한 다음 한 번에 전자가 이동하는 채널 홀을 만드는 기술입니다. '9세대 V낸드'는 차세대 낸드플래시 인터페이스인 'Toggle 5.1'이 적용돼 8세대 V낸드 대비 33% 향상된 최대 3.2Gbps의 데이터 입출력 속도를 냅니다. 삼성전자는 이를 기반으로 PCIe 5.0 인터페이스를 지원하고 고성능 SSD 시장을 확대할 계획입니다. 또한 '9세대 V낸드'는 저전력 설계 기술을 탑재해 이전 세대 제품 대비 소비 전력이 약 10% 개선됐습니다. 허성회 삼성전자 메모리사업부 Flash개발실장 부사장은 "낸드플래시 제품의 세대가 진화할수록 고용량·고성능 제품에 대한 고객의 니즈가 높아지고 있어 극한의 기술 혁신을 통해 생산성과 제품 경쟁력을 높였다"며 "9세대 V낸드를 통해 AI 시대에 대응하는 초고속, 초고용량 SSD 시장을 선도해 나갈 것"이라고 말했습니다. 삼성전자는 'TLC 9세대 V낸드'에 이어 올 하반기 'QLC(Quad Level Cell) 9세대 V낸드'도 양산할 예정으로 고용량·고성능 낸드플래시 개발을 지속할 예정입니다.


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