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법원 “카허 카젬 한국지엠 사장 출국금지 연장 취소하라”

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Friday, April 23, 2021, 14:04:41

1700여명 불법 파견

 

인더뉴스 이진솔 기자 | 근로자 불법 파견 혐의로 재판에선 카허 카젬 한국지엠(GM) 사장이 출국정지 처분에 반발해 낸 행정소송 1심에서 승소했습니다.

 

23일 연합뉴스 보도에 따르면 서울행정법원 행정2단독 신명희 부장판사는 이날 카허 카젬 사장이 “출국정지 기간을 연장한 처분을 취소하라”며 법무부 장관을 상대로 제기한 소송을 원고 승소로 판결했습니다.

 

카허 카젬 사장은 협력업체 소속 노동자 1700여명을 불법 파견받은 혐의로 수사를 받던 지난해 법무부로부터 출국정지 처분을 받고 이후 출국정지 기간이 연장되자 7월 10일 소송을 냈습니다. 이번에 승소한 본안 소송과 별도로 카허 카젬 사장은 이미 지난달 출국정지 연장 처분에 대한 효력정지 결정을 받아 출국이 가능한 상태입니다.

 

검찰은 카젬 사장이 행정소송을 낸 이후인 지난해 7월 21일 파견근로자보호 등에 관한 법률 위반 혐의로 불구속기소 했습니다. 카젬 사장에 대한 형사재판은 1심이 진행입니다.

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이진솔 기자 jinsol@inthenews.co.kr


삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

2024.04.23 11:07:48

인더뉴스 이종현 기자ㅣ삼성전자[005930]가 업계 최초로 '1Tb(테라비트) TLC(Triple Level Cell) 9세대 V낸드' 양산을 시작한다고 23일 밝혔습니다. AI시대가 도래한 만큼 현재 업계에서는 AI기술에 핵심적으로 사용되는 고용량·고성능 낸드플래시에 대한 관심이 집중되고 있습니다. 삼성전자는 이번 '9세대 V낸드' 양산을 시작으로 낸드플래시 시장에서의 경쟁력을 공고히 하겠다는 입장입니다. 삼성전자는 업계 최소 크기 셀(Cell)과 최소 몰드(Mold) 두께를 구현해 '1Tb TLC 9세대 V낸드'의 비트 밀도를 이전 세대 대비 약 1.5배 증가시켰습니다. 동시에 더미 채널 홀 제거 기술로 셀의 평면적을 줄였으며 셀의 크기를 줄이면서 생기는 간섭 현상을 제어하기 위해 셀 간섭 회피 기술, 셀 수명 연장 기술을 적용했습니다. 해당 제품은 더블 스택(Double Stack) 구조로 구현할 수 있는 최고 단수 제품으로 '채널 홀 에칭(Channel Hole Etching)' 기술을 통해 한번에 업계 최대 단수를 뚫는 공정을 통해 생산성을 향상시켰습니다. '채널 홀 에칭'은 몰드층을 순차적으로 적층한 다음 한 번에 전자가 이동하는 채널 홀을 만드는 기술입니다. '9세대 V낸드'는 차세대 낸드플래시 인터페이스인 'Toggle 5.1'이 적용돼 8세대 V낸드 대비 33% 향상된 최대 3.2Gbps의 데이터 입출력 속도를 냅니다. 삼성전자는 이를 기반으로 PCIe 5.0 인터페이스를 지원하고 고성능 SSD 시장을 확대할 계획입니다. 또한 '9세대 V낸드'는 저전력 설계 기술을 탑재해 이전 세대 제품 대비 소비 전력이 약 10% 개선됐습니다. 허성회 삼성전자 메모리사업부 Flash개발실장 부사장은 "낸드플래시 제품의 세대가 진화할수록 고용량·고성능 제품에 대한 고객의 니즈가 높아지고 있어 극한의 기술 혁신을 통해 생산성과 제품 경쟁력을 높였다"며 "9세대 V낸드를 통해 AI 시대에 대응하는 초고속, 초고용량 SSD 시장을 선도해 나갈 것"이라고 말했습니다. 삼성전자는 'TLC 9세대 V낸드'에 이어 올 하반기 'QLC(Quad Level Cell) 9세대 V낸드'도 양산할 예정으로 고용량·고성능 낸드플래시 개발을 지속할 예정입니다.


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