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DL이앤씨, ‘e편한세상 연천 웰스하임’ 5월 분양한다

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Friday, April 09, 2021, 14:04:03

지하 1층~지상 23층, 6개동, 전용면적 59~84㎡, 총 499가구

 

인더뉴스 안정호 기자ㅣDL이앤씨(대표 마창민)는 경기도 연천군 연천읍 옥산리 860번지 일원(옥산지구 1블록)에서 ‘e편한세상 연천 웰스하임’을 5월 분양한다고 9일 밝혔습니다.

 

해당 단지는 지하 1층~지상 23층, 6개동, 전용면적 59~84㎡, 총 499가구입니다. 전용면적 별로 ▲59㎡A 43가구 ▲59㎡B 39가구 ▲74㎡A 86가구 ▲74㎡B 37가구 ▲84㎡A 206가구 ▲84㎡B 88가구로 구성됩니다.

 

e편한세상 연천 웰스하임은 e편한세상만의 라이프스타일 맞춤 특화 평면인 ‘C2 하우스’가 적용됩니다. C2 하우스는 급변하는 라이프스타일과 주거 환경에 맞춰 유연하게 대처 가능한 새로운 주거 플랫폼입니다. DL이앤씨는 수요자의 니즈에 따라 자유롭게 구조를 변경할 수 있고 수납이 극대화되는 공간 설계로 입주자들에게 최적의 주거환경을 제공할 계획입니다.

 

아울러 DL이앤씨의 미세먼지 저감 시스템인 ‘스마트 클린&케어 솔루션’은 실내뿐만 아니라 실외의 공기까지 관리해 단지 전체를 아우르며 청정환경을 조성합니다.

 

세대 내부에는 ‘스마트 공기제어 시스템’을 통해 자동으로 실내 미세먼지 및 이산화탄소 농도에 따라 환기와 공기청정 시스템이 가동돼 24시간 깨끗한 공기질을 유지합니다. 단지 외부에는 미세먼지 상태를 알리는 웨더 스테이션과 미스트 분사시설 등이 설치되어 미세먼지 저감효과를 누릴 수 있습니다.

 

e편한세상 연천 웰스하임 단지 인근으로 다양한 개발호재가 들어설 예정으로 추후 가치상승에 대한 기대감이 높습니다. 오는 2022년 지하철 1호선 연천역이 연장돼 서울과의 접근성이 높아지고 연천BIX(은통일반산업단지) 개발로 인근 배후 수요도 확대될 전망입니다.

 

e편한세상 연천 웰스하임 단지 주변은 풍부한 인프라가 갖춰져 있습니다. 단지 인근에 연천초, 연천중, 연천고 등 각급 학교가 위치해 교육 환경이 풍부합니다. 연천군청, 연천군법원과 연천공영버스터미널 등 다양한 공공시설과 편의시설도 이용할 수 있습니다.

 

연천 어린이공원, 옥산근린공원, 현가근린공원, 차탄천 등 입주민들의 풍요로운 여가 생활을 누릴 수 있는 쾌적한 주거환경이 조성돼 있습니다. 또 망곡산 체육공원, 연천공설 운동장 등 다양한 체육시설까지 갖춰져 있습니다.

 

분양 관계자는 “연천 최초의 1군 TOP 브랜드에 걸맞게 인근 지역 내에서도 최고 수준의 단지가 될 것”이라며 “특히 수도권 내에서 희소성 높은 비규제지역에서 분양되는 만큼 각종 규제에서 자유로워 본격적인 분양 전부터 수요자들의 문의가 이어지고 있다”고 말했습니다.

 

‘e편한세상 연천 웰스하임’ 주택전시관은 경기도 연천군 전곡읍 전곡리 276-12번지에 조성되며 5월 중 개관할 예정입니다. DL이앤씨는 사이버주택전시관 운영도 병행을 준비 중이라고 알렸습니다.

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안정호 기자 vividocu@inthenews.co.kr


삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

2024.04.23 11:07:48

인더뉴스 이종현 기자ㅣ삼성전자[005930]가 업계 최초로 '1Tb(테라비트) TLC(Triple Level Cell) 9세대 V낸드' 양산을 시작한다고 23일 밝혔습니다. AI시대가 도래한 만큼 현재 업계에서는 AI기술에 핵심적으로 사용되는 고용량·고성능 낸드플래시에 대한 관심이 집중되고 있습니다. 삼성전자는 이번 '9세대 V낸드' 양산을 시작으로 낸드플래시 시장에서의 경쟁력을 공고히 하겠다는 입장입니다. 삼성전자는 업계 최소 크기 셀(Cell)과 최소 몰드(Mold) 두께를 구현해 '1Tb TLC 9세대 V낸드'의 비트 밀도를 이전 세대 대비 약 1.5배 증가시켰습니다. 동시에 더미 채널 홀 제거 기술로 셀의 평면적을 줄였으며 셀의 크기를 줄이면서 생기는 간섭 현상을 제어하기 위해 셀 간섭 회피 기술, 셀 수명 연장 기술을 적용했습니다. 해당 제품은 더블 스택(Double Stack) 구조로 구현할 수 있는 최고 단수 제품으로 '채널 홀 에칭(Channel Hole Etching)' 기술을 통해 한번에 업계 최대 단수를 뚫는 공정을 통해 생산성을 향상시켰습니다. '채널 홀 에칭'은 몰드층을 순차적으로 적층한 다음 한 번에 전자가 이동하는 채널 홀을 만드는 기술입니다. '9세대 V낸드'는 차세대 낸드플래시 인터페이스인 'Toggle 5.1'이 적용돼 8세대 V낸드 대비 33% 향상된 최대 3.2Gbps의 데이터 입출력 속도를 냅니다. 삼성전자는 이를 기반으로 PCIe 5.0 인터페이스를 지원하고 고성능 SSD 시장을 확대할 계획입니다. 또한 '9세대 V낸드'는 저전력 설계 기술을 탑재해 이전 세대 제품 대비 소비 전력이 약 10% 개선됐습니다. 허성회 삼성전자 메모리사업부 Flash개발실장 부사장은 "낸드플래시 제품의 세대가 진화할수록 고용량·고성능 제품에 대한 고객의 니즈가 높아지고 있어 극한의 기술 혁신을 통해 생산성과 제품 경쟁력을 높였다"며 "9세대 V낸드를 통해 AI 시대에 대응하는 초고속, 초고용량 SSD 시장을 선도해 나갈 것"이라고 말했습니다. 삼성전자는 'TLC 9세대 V낸드'에 이어 올 하반기 'QLC(Quad Level Cell) 9세대 V낸드'도 양산할 예정으로 고용량·고성능 낸드플래시 개발을 지속할 예정입니다.


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