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코로나 신규 확진 346명…사흘 만에 다시 300명대로

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Friday, January 22, 2021, 11:01:05

경기 116명-서울 115명-부산 23명-경남 21명-경북 15명-인천·강원 각 9명

 

인더뉴스 남궁경 기자ㅣ국내 코로나19 확산세가 한결 누그러지면서 22일 신규 확진자 수는 346명으로 집계됐습니다. 지난 19일(386명) 이후 사흘 만에 다시 300명대로 내려왔습니다.

 

중앙방역대책본부는 이날 0시 기준으로 코로나19 신규 확진자가 346명 늘어 누적 7만 4262명이라고 밝혔습니다.전날(401명)과 비교해 55명 감소하며 지난해 11월 23일(271명) 이후 가장 적은 수치를 기록했습니다.

 

이날 신규 확진자의 감염경로를 보면 지역발생이 314명, 해외유입이 32명입니다. 확진자가 나온 지역을 보면 서울 113명, 경기 102명, 인천 8명 등 수도권이 223명입니다.

 

비수도권은 부산 23명, 경남 21명, 경북 12명, 강원 8명, 충남·전남 각 7명, 대구 5명, 광주·울산·제주 각 2명, 대전·충북 각 1명입니다. 비수도권 내 지역발생 확진자는 91명으로, 다시 100명 아래로 내려왔습니다.

 

주요 감염 사례를 보면 경북 상주시 'BTJ열방센터' 관련 확진자는 총 797명까지 늘었고, 경기 용인시 수지산성교회 사례에서는 지난 19일 이후 8명이 추가되면서 누적 확진자가 224명이 됐습니다.

 

이 밖에도 서울 강남구 사우나 관련(누적 18명), 경기 광명시 보험회사(14명), 경기 화성시 제조업 관련(10명), 충남 천안시 우체국(6명), 경북 상주시 가족(11명) 등 곳곳에서 새로운 발병 사례가 잇따랐습니다.

 

해외유입 확진자는 32명으로, 전날(21명·발표 기준)보다 11명 늘었습니다. 확진자 가운데 9명은 공항이나 항만 입국 검역 과정에서 확인됐습니다. 나머지 23명은 경기(14명), 경북(3명), 서울(2명), 대구·인천·울산·강원(각 1명) 지역 거주지나 임시생활시설에서 자가격리하던 중 양성 판정을 받았습니다.

 

이들의 유입 추정 국가를 보면 미국이 17명으로 가장 많고 이어 이집트 5명, 미얀마 4명, 인도네시아 2명, 일본·독일·터키·브라질 각 1명입니다. 확진자 중 내국인이 22명, 외국인이 10명입니다.

 

지역발생과 해외유입(검역 제외)을 합치면 서울 115명, 경기 116명, 인천 9명 등 수도권이 240명입니다. 세종과 전북을 제외한 전국 15개 시도에서 확진자가 새로 나왔습니다.

 

사망자는 전날보다 12명 늘어 누적 1328명이 됐으며, 평균 치명률은 1.79%입니다.

 

위중증 환자는 전날보다 18명 줄어 299명입니다. 위중증 환자가 200명대로 떨어진 것은 지난달 28일(295명) 이후 25일 만입니다.

 

English(中文·日本語) news is the result of applying Google Translate. <iN THE NEWS> is not responsible for the content of English(中文·日本語) news.

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남궁경 기자 nkk@inthenews.co.kr


삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

2024.04.23 11:07:48

인더뉴스 이종현 기자ㅣ삼성전자[005930]가 업계 최초로 '1Tb(테라비트) TLC(Triple Level Cell) 9세대 V낸드' 양산을 시작한다고 23일 밝혔습니다. AI시대가 도래한 만큼 현재 업계에서는 AI기술에 핵심적으로 사용되는 고용량·고성능 낸드플래시에 대한 관심이 집중되고 있습니다. 삼성전자는 이번 '9세대 V낸드' 양산을 시작으로 낸드플래시 시장에서의 경쟁력을 공고히 하겠다는 입장입니다. 삼성전자는 업계 최소 크기 셀(Cell)과 최소 몰드(Mold) 두께를 구현해 '1Tb TLC 9세대 V낸드'의 비트 밀도를 이전 세대 대비 약 1.5배 증가시켰습니다. 동시에 더미 채널 홀 제거 기술로 셀의 평면적을 줄였으며 셀의 크기를 줄이면서 생기는 간섭 현상을 제어하기 위해 셀 간섭 회피 기술, 셀 수명 연장 기술을 적용했습니다. 해당 제품은 더블 스택(Double Stack) 구조로 구현할 수 있는 최고 단수 제품으로 '채널 홀 에칭(Channel Hole Etching)' 기술을 통해 한번에 업계 최대 단수를 뚫는 공정을 통해 생산성을 향상시켰습니다. '채널 홀 에칭'은 몰드층을 순차적으로 적층한 다음 한 번에 전자가 이동하는 채널 홀을 만드는 기술입니다. '9세대 V낸드'는 차세대 낸드플래시 인터페이스인 'Toggle 5.1'이 적용돼 8세대 V낸드 대비 33% 향상된 최대 3.2Gbps의 데이터 입출력 속도를 냅니다. 삼성전자는 이를 기반으로 PCIe 5.0 인터페이스를 지원하고 고성능 SSD 시장을 확대할 계획입니다. 또한 '9세대 V낸드'는 저전력 설계 기술을 탑재해 이전 세대 제품 대비 소비 전력이 약 10% 개선됐습니다. 허성회 삼성전자 메모리사업부 Flash개발실장 부사장은 "낸드플래시 제품의 세대가 진화할수록 고용량·고성능 제품에 대한 고객의 니즈가 높아지고 있어 극한의 기술 혁신을 통해 생산성과 제품 경쟁력을 높였다"며 "9세대 V낸드를 통해 AI 시대에 대응하는 초고속, 초고용량 SSD 시장을 선도해 나갈 것"이라고 말했습니다. 삼성전자는 'TLC 9세대 V낸드'에 이어 올 하반기 'QLC(Quad Level Cell) 9세대 V낸드'도 양산할 예정으로 고용량·고성능 낸드플래시 개발을 지속할 예정입니다.


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