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현대중공업, 동해에 그린수소 생산플랜트 구축한다

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Friday, May 07, 2021, 09:05:31

2025년까지 100MW급 실증설비 구축..2030년까지 1.2GW급 대규모 생산 플랜트 가동 목표

 

인더뉴스 안정호 기자ㅣ현대중공업이 친환경 그린수소 생산을 위한 해상 플랜트 개발에 나서며 그룹 내 ‘수소밸류체인’ 구축에 힘을 싣고 있습니다.

 

현대중공업(대표 한영석)은 지난 6일 울산시 테크노산업단지에서 울산시·울산테크노파크·울산상공회의소·한국석유공사·SK가스·한국동서발전·세진중공업·울산과학기술원(UNIST) 등 9개 지자체 및 산학연 기관과 ‘부유식 해상풍력 연계 100MW급 그린수소 생산 실증설비 구축에 대한 MOU(양해각서)’를 체결했다고 7일 밝혔습니다.

 

이날 협약식에 앞서 열린 그린수소 육성을 위한 비전선포식에는 문재인 대통령, 송철호 울산시장, 한영석 현대중공업 사장 등 정부 및 산학연 관계자 40여명이 참석했습니다.

 

이번 MOU에 따라 각 기관은 오는 2025년까지 동해 부유식 풍력단지에서 100MW급 그린수소 실증설비를 구축하는 1단계 사업을 추진하고 2030년까지 1.2GW급 대규모 그린수소 생산 플랜트를 가동하는 2단계 사업을 진행한다는 계획입니다.

 

현대중공업은 부유식 풍력단지에서 생산된 전력을 활용해 바닷물에서 수소를 생산하는 대규모 ‘수전해’ 기반의 그린수소 플랜트를 개발한다고 밝혔습니다.

 

울산시 등 기관은 제도 개선과 사업화 지원, 한국석유공사와 SK가스는 부유식 풍력단지 개발, 한국동서발전은 그린수소 전력 생산과 비즈니스 모델 개발, UNIST는 해상풍력 그린수소 실증 등을 각각 맡게 됩니다.

 

그린수소는 풍력 등 신재생에너지로부터 발생한 전기를 활용해 물을 분해하는 방식으로 생산되며 이산화탄소가 전혀 배출되지 않아 미래 친환경에너지원으로 기대를 모으고 있습니다.

 

앞서 현대중공업그룹은 지난 3월 육상과 해상에서 수소의 생산에서부터 운송, 저장, 활용에 이르는 수소밸류체인을 구축한다는 그룹의 수소사업 비전인 ‘수소 드림(Dream) 2030 로드맵’을 발표했습니다.

 

한편, 정부는 2019년 1월 친환경 수소경제 활성화 로드맵을 발표하고 2040년까지 수소차 620만대 생산, 수소 충전소 1200개소 구축, 발전용 연료전지 15GW 생산 등을 그 목표로 제시한 바 있습니다.

 

한영석 현대중공업 사장은 이날 협약식에서 “현대중공업은 스마트 선박, 친환경 선박뿐 아니라 그린수소 인프라 분야에서도 글로벌 리딩 업체로 도약하기 위해 기술 개발에 매진하고 있다”며 “이번 MOU를 통해 지자체, 유관 기업이 합심해 기술을 내재화하고 새로운 비즈니스를 창출해 궁극적으로 한국이 글로벌 수소사회를 선도하는데 마중물이 되기를 소망한다”고 말했습니다.

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안정호 기자 vividocu@inthenews.co.kr


삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

2024.04.23 11:07:48

인더뉴스 이종현 기자ㅣ삼성전자[005930]가 업계 최초로 '1Tb(테라비트) TLC(Triple Level Cell) 9세대 V낸드' 양산을 시작한다고 23일 밝혔습니다. AI시대가 도래한 만큼 현재 업계에서는 AI기술에 핵심적으로 사용되는 고용량·고성능 낸드플래시에 대한 관심이 집중되고 있습니다. 삼성전자는 이번 '9세대 V낸드' 양산을 시작으로 낸드플래시 시장에서의 경쟁력을 공고히 하겠다는 입장입니다. 삼성전자는 업계 최소 크기 셀(Cell)과 최소 몰드(Mold) 두께를 구현해 '1Tb TLC 9세대 V낸드'의 비트 밀도를 이전 세대 대비 약 1.5배 증가시켰습니다. 동시에 더미 채널 홀 제거 기술로 셀의 평면적을 줄였으며 셀의 크기를 줄이면서 생기는 간섭 현상을 제어하기 위해 셀 간섭 회피 기술, 셀 수명 연장 기술을 적용했습니다. 해당 제품은 더블 스택(Double Stack) 구조로 구현할 수 있는 최고 단수 제품으로 '채널 홀 에칭(Channel Hole Etching)' 기술을 통해 한번에 업계 최대 단수를 뚫는 공정을 통해 생산성을 향상시켰습니다. '채널 홀 에칭'은 몰드층을 순차적으로 적층한 다음 한 번에 전자가 이동하는 채널 홀을 만드는 기술입니다. '9세대 V낸드'는 차세대 낸드플래시 인터페이스인 'Toggle 5.1'이 적용돼 8세대 V낸드 대비 33% 향상된 최대 3.2Gbps의 데이터 입출력 속도를 냅니다. 삼성전자는 이를 기반으로 PCIe 5.0 인터페이스를 지원하고 고성능 SSD 시장을 확대할 계획입니다. 또한 '9세대 V낸드'는 저전력 설계 기술을 탑재해 이전 세대 제품 대비 소비 전력이 약 10% 개선됐습니다. 허성회 삼성전자 메모리사업부 Flash개발실장 부사장은 "낸드플래시 제품의 세대가 진화할수록 고용량·고성능 제품에 대한 고객의 니즈가 높아지고 있어 극한의 기술 혁신을 통해 생산성과 제품 경쟁력을 높였다"며 "9세대 V낸드를 통해 AI 시대에 대응하는 초고속, 초고용량 SSD 시장을 선도해 나갈 것"이라고 말했습니다. 삼성전자는 'TLC 9세대 V낸드'에 이어 올 하반기 'QLC(Quad Level Cell) 9세대 V낸드'도 양산할 예정으로 고용량·고성능 낸드플래시 개발을 지속할 예정입니다.


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