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Column 칼럼

아나운서 스터디 실전 적용편

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Tuesday, November 26, 2013, 14:11:24

[박은주의 마이크]

이번 글에서는 아나운서 실기 스터디 운영에 관한 구체적인 노하우를 전한다.

 

먼저 커리큘럼과 진행 방법. 발성과 발음 연습, 뉴스 2개 리딩을 기본으로 여기에 MC, DJ, NA(내래이션), 스피치 중 한 개를 번갈아가며 연습한다. 시험을 목전에 둔 경우라면 면접전형 대비 커리큘럼까지 추가해 실전처럼 예상 질문과 답변을 주고받는 시간을 마련하면 된다.

 

이때 스터디의 성패는 구성원들의 협업에 달려있다고 할 수 있다. 스터디 자료를 리더 혼자 준비하기보다는 구성원 모두가 돌아가며 뉴스, MC, DJ 원고 등을 한 개씩 맡는 것이 좋다. 예를 들어 조원 B가 한 번은 뉴스 원고를 맡았다면 그 다음에는 내레이션 원고를 준비하는 식이다. 각 조원들이 자신이 맡은 분야에서 연습하기 가장 적당한 원고를 골라 미리 다른 스터디원들에게 보내주고, 원고에 나오는 단어들의 장음(국어사전에 길게 발음해야 한다고 나와 있는 단어) 여부, 가장 적합한 포즈(의미 전달이나 호흡을 위해 쉬거나 띄어 읽어야 하는 부분)등을 정해와서 연습을 이끌어야 한다.

 

인터넷에 떠도는 대본을 대충 긁어서 장음, 포즈만 찾아오지 말고 각자 담당한 부분에 정성을 들여야만 스터디의 질이 높아진다. 예를 들어 MC 원고를 맡았다면 오디오 실력이 뛰어난 아나운서가 진행하는 프로그램을 선별해 직접 멘트를 받아 적으며 대본을 만들자. 그리고 VOD를 반복 시청하면서 장음, 포즈뿐만 아니라 아나운서의 표정·자세·리딩속도·동작까지도 전부 익혀 두었다가 다른 스터디원들을 지도해야 더욱 알찬 시간이 된다. ‘전원 합격을 이루거나 취업률이 높은 스터디들은 이처럼 열성적인 스터디원들로 구성돼 있는 경우가 많다.

 

다음은 스터디를 운영할 때 주의점. 꼭 함께하고 싶다는 절절한 내용의 지원 메일을 보내 스터디원으로 받았더니 막상 결석하거나 매번 늦게 오는 사람들이 의외로 많다. 나 역시 준비생 시절 먼저 와서 기다리다가 결국 아무도 안 오면 집에 그냥 돌아가는 날도 꽤 있었다. 하지만 이런 불성실한 사람이 아나운서 되는 것을 결코 본 적이 없다. 불성실한 구성원은 가지쳐가며 운영해나가는 것이 스터디 전체를 위해서 좋다.

 

일단 모집 때부터 요일과 시간을 정도 정해서 사람을 받을 것. 만나고 나서 서로 맞는 시간을 조율해보자고 하면 정말 2~3주 동안 조율만 하다가 스터디가 해산된다. 또 벌금제나 디파짓 운영도 필수다. 무책임한 지각, 결석의 책임을 물을 수 있다.

 

또한 스터디원들끼리 너무 친해지는 것도 경계하자. 아나운서 준비는 해야 할 것도 많고 결과 또한 불투명해 힘든 길이라고 할 수 있다. 스터디원들이 가까워지게 되면 심리적 안정을 얻고 위로를 나눈다는 명목 하에 하소연과 푸념만 3시간 내내 늘어놓다가 헤어지는 경우가 다반사다. 정작 서로의 오디오와 비디오에 관해 쓴소리 하기는 점점 힘들어진다. 따라서 매우 잘 굴러가는 스터디라고 할지라도 3~4개월 정도 공부를 했다면 발전적 해체를 하는 것이 바람직하다. 가급적 많은 스터디원을 만나 약간은 긴장감이 있는 상태에서 다양한 조언을 들어보는 것이 합격에 도움이 된다.

 

기억하자! 스터디는 결코 아나운서 준비생들의 친목 도모의 장이 아니다.

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박은주 기자 eileenkwon@inthenews.co.kr


삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

삼성전자, 업계 최초 ‘9세대 V낸드’ 양산…“낸드플래시 시장 선도하겠다”

2024.04.23 11:07:48

인더뉴스 이종현 기자ㅣ삼성전자[005930]가 업계 최초로 '1Tb(테라비트) TLC(Triple Level Cell) 9세대 V낸드' 양산을 시작한다고 23일 밝혔습니다. AI시대가 도래한 만큼 현재 업계에서는 AI기술에 핵심적으로 사용되는 고용량·고성능 낸드플래시에 대한 관심이 집중되고 있습니다. 삼성전자는 이번 '9세대 V낸드' 양산을 시작으로 낸드플래시 시장에서의 경쟁력을 공고히 하겠다는 입장입니다. 삼성전자는 업계 최소 크기 셀(Cell)과 최소 몰드(Mold) 두께를 구현해 '1Tb TLC 9세대 V낸드'의 비트 밀도를 이전 세대 대비 약 1.5배 증가시켰습니다. 동시에 더미 채널 홀 제거 기술로 셀의 평면적을 줄였으며 셀의 크기를 줄이면서 생기는 간섭 현상을 제어하기 위해 셀 간섭 회피 기술, 셀 수명 연장 기술을 적용했습니다. 해당 제품은 더블 스택(Double Stack) 구조로 구현할 수 있는 최고 단수 제품으로 '채널 홀 에칭(Channel Hole Etching)' 기술을 통해 한번에 업계 최대 단수를 뚫는 공정을 통해 생산성을 향상시켰습니다. '채널 홀 에칭'은 몰드층을 순차적으로 적층한 다음 한 번에 전자가 이동하는 채널 홀을 만드는 기술입니다. '9세대 V낸드'는 차세대 낸드플래시 인터페이스인 'Toggle 5.1'이 적용돼 8세대 V낸드 대비 33% 향상된 최대 3.2Gbps의 데이터 입출력 속도를 냅니다. 삼성전자는 이를 기반으로 PCIe 5.0 인터페이스를 지원하고 고성능 SSD 시장을 확대할 계획입니다. 또한 '9세대 V낸드'는 저전력 설계 기술을 탑재해 이전 세대 제품 대비 소비 전력이 약 10% 개선됐습니다. 허성회 삼성전자 메모리사업부 Flash개발실장 부사장은 "낸드플래시 제품의 세대가 진화할수록 고용량·고성능 제품에 대한 고객의 니즈가 높아지고 있어 극한의 기술 혁신을 통해 생산성과 제품 경쟁력을 높였다"며 "9세대 V낸드를 통해 AI 시대에 대응하는 초고속, 초고용량 SSD 시장을 선도해 나갈 것"이라고 말했습니다. 삼성전자는 'TLC 9세대 V낸드'에 이어 올 하반기 'QLC(Quad Level Cell) 9세대 V낸드'도 양산할 예정으로 고용량·고성능 낸드플래시 개발을 지속할 예정입니다.


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